松下俊一、宮戸泰三、橋本 博、大谷栄介、内野竜嗣、藤崎 晃
概要
物質に入力する光エネルギーを時間的に制御できるパルスレーザは，レーザ加工分野のマーキングや微細加工で活用が進んでいる。近年，ファイバ型パルスレーザの登場により，高信頼，高輝度，メンテナンスフリーなどの特長から，これまで主流であったCO2レーザやYAGレーザからファイバ型パルスレーザへ置き換えが急速に進んでいる。スループットの向上や加工材料の適用範囲拡大のため，平均出力の増大や直線偏光出力，パルス幅や繰り返し周波数の可変性が求められる。当社では，これらの要請を満たすため，外部変調型と直接変調型のパルス光源を用い，その出力を偏波保持型YDF 光増幅器で増幅するMOPA（Master Oscillator Power Amplifier） 構成の偏波保持ファイバ型パルスレーザを開発した。波長1064nm，繰り返し周波数1MHz，パルス幅は100ns及び10nsにおいて，最大出力70W及び13Wを実現した。
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