河原 亮、 橋本 博、Jeffrey W. Nicholson 、 大谷栄介、松下俊一
概要
レーザ加工分野において，加工対象物へ入射するレーザ光を時間的に制御できるパルスレーザは，マーキングや微細加工の用途で普及が進んでいる。このような用途では，加工条件の最適化や，加工速度の向上，および加工領域の拡大のためには，パルス幅や繰返し周波数の可変性や，ビーム品質を維持したまま高出力化することが求められる。当社ではこの要請を満たすために，直接変調型のパル ス光源とその出力を増幅するファイバ型の光増幅器を用いた，MOPA（Master Oscillator Power Amplifier）構成のパルスファイバレーザを開発した。本パルスファイバレーザは，光ファイバ中の非線形効果を抑制し高ピークパワーの光パルス出力を実現するために，光増幅器を構成する増幅用ファイバとしてOFS製の特殊ファイバを用い，パルス幅がサブナノ秒～数ナノ秒の時間領域において，100 kW超の高ピークパワー増幅と高ビーム品質出力を実現した。
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