H-VLPと同レベルの密着性を維持しながら更なるロープロファイル化を進め、業界最高水準の低伝送ロスを実現しております。

特長

  • 超微細粗化と特殊表面処理によりH-VLP以上の低伝送ロスを実現。

代表的な用途

  • ハイエンドルータ・サーバーなどの情報通信機器
  • 通信基地局用アンテナ用基板
  • ミリ波レーダー用基板

仕様

箔厚 [µm] 12

18

35

引張強さ [MPa] 310 310 310
伸び [%] 7 9 19
表面粗さRz [μm] 1.2 1.1 1.0

用途別銅箔一覧

用途 品種 プロファイル 製造拠点 厚み(μm)
6 9 12 18 35 70 105~
高周波基板 RTF 台湾        
VLP 台湾          
H-VLP 台湾          
H-VLP 日本        
H-VLP2 日本        
フレキシブルプリント基板 VLP 日本      
VLP 日本          
VLP 日本          
パッケージ基板 一般箔 台湾      
VLP 日本          
VLP 日本          
高密度多層基板 一般箔 台湾      
VLP 日本          
大電流基板 一般箔 日本             ○(~210μm)