在半导体晶圆背面研磨工艺中(背面减薄),用来暂时保护晶圆表面的粘结胶带

特长

产品系列 被粘贴物 特长 候补型号
SP系列 硅晶圆
  • 薄片晶圆的研磨
  • 低翘曲
  • 低粘结力
  • 段差跟踪(~60μm)
  • 段差跟踪(~250μm)
  • SP-594M-130
  • SP5156B-130
  • SP-541B-205
  • SP-537T-230
  • SP5207M-425
SP系列 特殊用途
(SiC,GaAs,GaN,蓝宝石等)
  • 高刚性基材
  • SP-537T-130
  • SP-537T-160
  • SP-594M-130
CP系列 硅晶圆
  • 薄片晶圆的研磨
  • 段差跟踪(~20μm)
  • 无硅
  • 段差跟踪(~250μm)
  • CP9007B-130
  • CP9003B-205B
  • CP9079B-200
  • CP9206M-430

规格

硅晶圆用 SP系列

胶带名称 SP-594M-130 SP5156B-130 SP-541B-205 SP-537T-230 SP5207M-425
基材厚度(µm) 100 110 165 100 420
粘结剂厚度(µm) 30 20 40 130 5
粘结力
(N/25mm)
♯280-SUS UV前 7.9 1.3 2.6 6.4 0.4
UV后 0.1 0.3 0.5 0.8 0.3
Si晶圆 UV前 3.0 0.5 1.7 2.5 0.2
UV后 0.1 0.1 0.2 0.1 0.1
特长
  • 对应薄片晶圆的研磨
  • 对应蚀刻
  • UV型
  • 对应薄片晶圆的研磨
  • 低翘曲
  • 低粘结力
  • UV型
  • 对应薄片晶圆的研磨
  • 低翘曲
  • UV型
  • 段差跟踪对应(~60μm)
  • UV型
  • 段差跟踪对应(~250μm)
  • UV型

(注) 以上数据是代表值,不是保证值

化合物用(SiC,GaAs,GaN,蓝宝石等) SP系列

胶带名称 SP-594M-130 SP-537T-160
基材厚度(µm) 100 100
粘结剂厚度(µm) 30 60
粘结力
(N/25mm)
♯280-SUS UV前 7.9 4.1
UV后 0.1 1.0
Si晶圆 UV前 3.0 1.5
UV后 0.1 0.1
特长
  • 高刚性基材
  • 蚀刻对应
  • UV型
  • 高刚性基材
  • 段差跟踪对应
  • UV型

(注) 以上数据是代表值,不是保证值

硅晶圆用 CP系列

胶带名称 CP9007B-130 CP9003B-205B CP9079B-200 CP9206M-430
基材厚度(µm) 100 165 165 420
粘结剂厚度(µm) 30 40 35 10
粘结力
(N/25mm)
♯280-SUS 0.9 1.8 0.5 0.3
特长
  • Non-UV型
  • 段差跟踪对应
    (~20μm)
  • 对应薄片晶圆的研磨
  • 对应酸性蚀刻
  • Non-UV型
  • 使用了无硅的离型膜
  • Non-UV型
  • 段差跟踪对应
    (~250μm)
  • Non-UV型

(注) 以上数据是代表值,不是保证值

适应工艺

SP系列适用范围

(注) 以上数据是代表值,不是保证值

CP系列适用范围

(注)以上数据是代表值,不是保证值

产品咨询