高純度無酸素銅ターゲット材料液晶パネルのTFT素子を駆動する配線パターンをスパッタリングで成膜するための高純度無酸素銅ターゲット材料です。
特長
- 従来は高純度アルミ製ターゲットを使って、アルミ配線を成膜していましたが、電気抵抗の大きいアルミ配線で、画面の大型化、高画質化をするためには、TFTの制御を分割する必要がありコストアップとなっていました。銅配線ならば、電気抵抗が半減しTFTの制御をシンプルにでき、制御系の部品点数を減らすことによってコストダウン、環境への配慮が可能となります。
用途
- TFT液晶パネル用スパッタリング・ターゲット
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